Описание
SiO2 monooxygen (односторонняя полировка)
Особенности:Монокристаллическая подложка из кремния высокой чистоты si, тип N/P опционально, удельное сопротивление 0,0001-100 Ом, опционально
Роста режим:Straight без застежки
С украшением в виде кристаллов направленности:[111]/[100]
Это действительно плоский экран:<1 микрон (измеренная общая warpage)
Область применения:1. PVD/CVD покрытие как подложка
2. Используется как XRD (рентгеновский Дифракционный анализ), SEM (сканирующий электронный микроскоп), FTIR инфракрасный, флуоресцентный спектральный анализ тестовая подложка, AFM (атомный силовой микроскоп)
3. Синхротронное излучение тест-носитель образца
4. Молекулярный пучок эпитаксиальный рост подложки
5. Полупроводниковый процесс литографии и т. Д.
Классификация:SiO2 monooxygen 5 × 5 мм; SiO2 monooxygen 10 × 10 мм;
SiO2 monooxy 15 × 15 мм; SiO2 monooxygen 10 × 20 мм;
SiO2 monooxygen 20 × 20 мм; SiO2 monooxygen 10 × 4 мм.
Примечание: другие размеры могут быть изменены.
Для покупки товара Односторонняя полировка высокой чистоты небольшой квадратный кусок SEM Кремниевая пластина SiO2 одиночный кислород многоразмерный размер нажмите кнопку "купить сейчас".
Если вы хотите купить другой товар из категории обустройство дома или комплектующие то перейдите по ссылкам вверху страницы.