Описание
Монокристаллическая Кремниевая пластина (односторонняя полировка)
Особенности: Кремниевая однокристальная подложка высокой чистоты si, тип N/P опционально, сопротивление 0,0001-100 Ом, опционально
Режим роста: прямая тяга
Кристаллическая направленность: [111]/[100]
Плоскость: <1 микрон (измеренная общая Боевая страница)
Применение: 1. PVD/CVD покрытие как подложка
2. Используется как XRD (рентгеновский Дифракционный анализ), SEM (сканирующий электронный микроскоп), FTIR инфракрасный, флуоресцентный спектральный анализ тест
Подложка, AFM (AtomicМикроскоп силы)
3. Синхротронное излучение тест-носитель образца
4. Молекулярный пучок эпитаксиальный рост подложки
5. Полупроводниковый процесс литографии и т. Д.
Примечание: другие размеры могут быть настроены и могут быть выставлены счета.
Для покупки товара Однобоковая полировка/для экспериментальных исследований/высокой чистоты small square piece SEM Single crystal silicon wafer нажмите кнопку "купить сейчас".
Если вы хотите купить другой товар из категории обустройство дома или комплектующие то перейдите по ссылкам вверху страницы.